天眼查知識產(chǎn)權(quán)信息顯示，浙江奧首材料科技有限公司取得一項(xiàng)名為“一種異山梨醇基強(qiáng)堿性季銨堿，及包含其的多晶硅蝕刻液、其制備方法及應(yīng)用“，授權(quán)公告號 CN118255779B，申請日期為 2024 年 5 月。

專利摘要顯示，本發(fā)明涉及一種異山梨醇基強(qiáng)堿性季銨堿，及包含其的多晶硅蝕刻液、其制備方法及應(yīng)用。所述多晶硅蝕刻液，組分中包含異山梨醇基強(qiáng)堿性季銨堿，非離子表面活性劑和超純水。本發(fā)明蝕刻液在多疊層蝕刻過程可保證多晶硅蝕刻均一性，與此同時(shí)在最佳蝕刻條件下，蝕刻液具有良好的使用壽命與穩(wěn)定性，可在 3D 閃存芯片領(lǐng)域應(yīng)用，用于解決以往蝕刻過程中底部多晶硅蝕刻深度與頂部不一致，蝕刻液濃度受溫度影響變大問題。